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刻蝕設備RTD晶圓測溫系統（RTD Wafer）
Thermo-349R
一、簡介
1.1 產品簡介
Thermo-349R系列RTD晶圓溫度測量系統，可用于8-12英寸晶圓配置，記錄等離子刻蝕工藝環境對真實工藝條件下生產晶圓的影響。Thermo-349R溫度測量系統包含高精度溫度傳感器，能夠實現晶圓整體溫度監測，而這與半導體刻蝕工藝的均勻性控制密切相關。
二、技術規格
2.1參數
Thermo-349R | |
Wafer尺寸 | 8-12英寸 (8英寸以下待論證) |
基材 | Silicon wafer |
測溫點數 | 49、65（可由客戶指定） |
測溫元件 | RTD |
溫度范圍 | 20~150℃（范圍可由客戶指定） |
溫度精度 | ±0.05℃ |
Sensor to Sensor | ±0.05℃ |
數據傳輸方式 | USB |
軟件 | RTD Wafer專用軟件，實時曲線與Wafer Mapping云圖 |
主機 | RTD Wafer 測溫系統一體機 |
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